Huawei подаде заявка за патент на EUV литографски скенер, който може да отвори пътя за производство на чипове по 7-нанометров технологичен процес в Китай. Ако компанията успее да създаде такъв скенер и да постигне добра производителност, това ще позволи на китайските фирми да преодолеят технологичните ограничения, наложени от санкциите на САЩ.

Патентната заявка е подадена в Националната администрация за интелектуална собственост в средата на ноември под номер 202110524685X, според китайския източник MyDrivers. Документът описва ключовите компоненти на EUV скенера, включително 13,5-нм светлинен генератор, набор от огледала и литографска система.



Разбира се, по патентната заявка не може да се съди за реалните възможности на Huawei да изгради сложна машина за чипове, която включва редица усъвършенствани компоненти, способни да поддържат перфектно координирана работа за продължителен период от време. И дори компанията да създаде EUV скенер, производството ще трябва да бъде осигурено с необходимите суровини.

В момента EUV скенер с числова апертура 0,33 е най-модерното оборудване за производство на чипове. Много компании се опитват да създадат такава машина, но само холандската ASML постигна успех с цената на повече от десетилетие работа и финансова подкрепа от Intel, Samsung и TSMC.